✏️ 서론포토 공정은 반도체 제작에서 성능과 정밀도를 좌우하는 가장 중요한 역할로 꼽힌다. 설계된 회로를 실제 반도체 웨이퍼에 구현하는 단계로, 어떠한 과정 속에서 어떤 원리로 이루어지는지 알아보자.📢 포토공정이란?회로 설계 이미지를 웨이퍼에 포토레지스트와 빛에너지, 도면을 이식시킨 마스크를 통해 웨이퍼에 미세 패턴을 그려 놓는 작업. ✨ 포토 공정의 중요성: 반도체의 미세화와 정밀성을 결정짓는 핵심 기술로, 반도체 성능은 회로 패턴의 크기와 밀도에 따라 달라진다. 최근에는 극자외선(EUV) 기술을 활용한 노광 방식이 도입되며, 더욱 미세한 회로 패턴 구현이 가능해졌다.*회절과 간섭 현상에 의한 문제를 줄이려면 결국 빛의 파장을 줄여야 한다. ⚙️ 주요 단계1. 포토레지스트 도포: 웨이퍼 위에 포토레지..