✏️ 반도체 산화 공정이란?실리콘 웨이퍼 표면에 얇은 산화막(산화 실리콘, SiO2)을 형성하는 과정으로, 산화막은 반도체 소자의 전기적 특성을 조절하여 불순물로부터 실리콘 표면을 보호하고, 웨이퍼 위 배선이 합선되지 않게 구분해 주는 절연막을 만들기 위한 필요한 공정. 📢 산화 공정의 필요성전기적 절연 : 산화막은 전기적으로 절연 성질을 가지고 있어 소자 내부의 전류가 의도하지 않은 경로로 흐르는 것을 방지한다. 보호막 역할 : 산화막은 외부의 물리적, 화학적 손상으로부터 소자를 보호하는 역할을 한다.기능성 층 : 트랜지스터의 게이트 산화막이나 커패시터의 절연체 등 반도체소자의 기능적 요소로 활용된다. ⚙️ 산화 공정의 주요 방법: 산화 공정은 주로 건식산화와 습식 산화로 나뉘며, 각 방식은 서로 ..