2024/11/10 2

무어의 법칙 (Moore's Law)

배경 : 1965년 논문을 통해 반도체 칩의 트랜지스터 수를 분석하던 무어는 반도체 기술의 발전이 기하급수적으로 이루어질 것이라고 예측하게 된다. 내용 :마이크로칩의 용량(반도체 칩에 집적되는 트랜지스터의 수)은 2년마다 두 배로 증가한다.( = 반도체의 성능이 일정한 속도로 빠르게 발전하며, 동시에 비용은 감소한다) 영향 : 반도체 산업의 기술 혁신을 이끄는 원동력: 비약적인 전자기기 성능 향상, 전자제품의 대중화(비용 절감) 증명 사례: intel의 2bit Flash Memory, IBM의 Damascene 공정 한계 : 최근에는 트랜지스터의 크기가 원자 수준에 가까워지며 물리적 한계에 다다르게 되어 속도가 느려지고 있다.발생되는 문제 : 퀸텀 터널링(누설 문제), 밀도 증가로 생긴 발열 문제, 초..

반도체의 발전 방향

📄 개요  : 반도체 산업은 끊임없는 발전을 거듭하며 기술의 한계를 극복해가고 있으며, 발전 방향은 크게 세 가지로 요약할 수 있다. 각 요소는 서로 연관되어 반도체의 성능과 효율을 높이고 비용을 절감한다. 1. Scale Down: 반도체의 트랜지스터 크기를 줄여 칩의 집적도를 높이는 기술.scale down을 통해 동일한 면적의 웨이퍼에 더 많은 칩을 제조할 수 있게 되고, 이는 더욱 미세한 회로 제작을 가능하게 한다. → 생산량 향상, 비용 절감 동향 ) 현재 반도체 업계는 3nm 이하의 공정으로 진입하며 '초미세 공정 기술'을 활용하고 있다.한계 ) 스케일 다운이 계속됨에 따라 물리적 한계( Gate와 Channel의 맞닿는 면적 또한 줄어들게 되면서, Gate의 제어능력이 줄어듦 → 누설 전류..